光刻

　　【包小可科技消息】近日，包小可注意到，有日媒报道称， 日本冲绳科学技术大学院大学开发出一项技术，旨在显著减少制造尖端半导体所必需的极紫外线（EUV）光刻设备的能耗与制造成本。该创新成果由该校新竹积教授领衔研发，其核心在于将EUV光刻路径中的反光镜数量从传统的10个精简至4个，从而有效降低了EUV光源的能量损耗。 　　当前，全球EUV光刻设备市场主要由荷兰…

　　【包小可科技消息】5月17日，包小可了解到，据日媒报道，佳能公司在半导体光刻机业务上已展现出复苏的强劲势头。尽管过去在与荷兰阿斯麦和尼康的竞争中，佳能未能成功生产出ArF浸没式光刻机和EUV（极紫外）光刻机，但近期他们通过推出纳米压印光刻装置（nanoimprint lithography），成功夺回了在尖端封装用途市场的主导地位。这一技术突破使佳能再次…

荷兰政府为确保阿斯麦将业务前往他国，拿出25亿欧元挽留阿斯麦。阿斯麦官方回应，企业未来发展方向仍在考虑中，按照规划，这笔资金在未来几年内将会用于改造总部的教育、交通、电网、住房等基础设施。除此以外，荷兰政府在声明中明确表示会采取一系列的行为来减轻企业税收负担。 荷兰政府欲砸25亿欧元挽留光刻机企业阿斯麦 阿斯麦是全球最大的光刻机制造商，也是唯一的极紫外光刻机…